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台湾力晶半导体与欧洲研究机构合作加紧开发32纳米电路技术

http://www.newmaker.com 2008-2-3 佳工机电网

台湾著名半导体内存厂商力晶半导体将与欧洲半导体研究机构IMEC（比利时）联手开发线宽32纳米的电路加工技术。IMEC正在研发3～10年后对于半导体厂商不可或缺的技术，力晶将通过与其建立合作关系，在主力产品DRAM的电路微细化竞争方面追赶全球行业巨头。

双方计划开发在硅晶圆上形成LSI（大规模集成电路）的三种曝光技术，包括液浸、二次曝光及EUV（超紫外线）光源。这些均被视为30纳米级电路加工的高端技术。力晶将将于3月份向IMEC派遣技术人员，开始共同研发。（1月31日《日经产业新闻》）

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